실리코나이제이션

최대의 정밀성과 효율성을 위한 표면 마감 및 컨버팅 솔루션

산소 농도가 낮은 조건에서 작동하는 UV 건조 시스템은 UV 경화 기술의 최첨단 형태를 보여줍니다. 이 공정에서는 공정 구역의 산소를 질소로 대체하여, UV 반응형 잉크와 코팅(바니시 포함), 그리고 실리콘(이형지/이형 필름)의 가교 반응이 이른바 불활성(인어트) 조건에서 진행됩니다.

이는 분명한 이점을 제공합니다. 잉크, 바니시 및 코팅이 더 빠르고 효율적으로 경화됩니다. 동시에 가교도가 향상되어 표면의 스크래치 저항성과 내화학성 같은 제품 특성을 최적화할 수 있습니다. 질소 분위기에서의 경화는 일반적인 UV 냄새를 거의 완전히 제거하며, 오존 생성과 황변도 방지합니다.

당사의 Inert UV 건조 시스템을 사용하면 최고 생산 속도에서도 잔류 산소 농도를 30 ppm 미만(예: 이형 라이너의 실리콘화에 요구됨)으로 달성할 수 있습니다. Hönle는 Inert UV 건조 챔버 자체뿐 아니라, 잔류 산소 측정용 구성품과 N₂ 가스 분배 시스템(공정 조건에 따른 유량 제어 포함)까지 제공하여 포트폴리오를 완성합니다. 이를 통해 최대의 제품 품질, 뛰어난 공정 신뢰성, 그리고 자원 소비 절감을 보장합니다.

당사는 전문성을 바탕으로 신규 설치뿐 아니라 기존 생산 라인의 레트로핏(개조)까지, 고객과의 긴밀한 파트너십을 통해 맞춤형 통합 솔루션을 설계합니다.

적용 분야

실리콘화(siliconization)를 위한 Inert-UV 기술은 질소(N₂)를 사용해 반응 챔버 내부의 산소를 치환함으로써, 산소가 실리콘의 라디칼 경화 과정에 간섭하는 것을 방지합니다. 이러한 불활성(인어트) 분위기는 더 빠르고 더 완전한 경화를 가능하게 하며, 제품 품질을 향상시키고 점착성 감소와 같은 표면 특성을 개선하여, 이형 코팅 및 고정밀 의료기기와 같은 적용 분야에서 이점을 제공합니다.

이 기술은 테이프나 라벨용 실리콘 이형 라이너 생산처럼 완전히 매끄럽고 점착이 없는 표면이 필수인 적용 분야, 포장용 종이 및 필름의 실리콘화, 그리고 정밀하고 고품질의 실리콘 구성품이 필요한 특수 기판 또는 의료기기 분야에 중요합니다.

Hönle의 Inert-UV 시스템은 무산소 조건에서 실리콘을 빠르게 경화시켜, 고품질의 완전 중합(폴리머화)된 소재를 구현합니다.